用途概述

GK系列管式真空氣氛爐通過設(shè)備控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)樣品在低、中、高真空環(huán)境下進行試驗，可有效地防止氧化、腐蝕和污染等問題，加熱過程中可保持材料的純潔性和質(zhì)量。該產(chǎn)品在航空航天、電子技術(shù)、高等院校、工礦企業(yè)、科研單位、材料研究等領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用。真空管式爐可作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和釬焊、冶金、玻璃、升華、合成、干燥、脫氣、脫脂、新能源、碳纖維、半導(dǎo)體、納米技術(shù)、燒結(jié)鍍膜、快速原型、鋰電池正負極材料、金屬注射成型(MIM)、陶瓷注射成型(CIM)、高溫?zé)峤獾准y沉積（CVD）等新材料的加熱用。

GK系列管式真空氣氛爐產(chǎn)品特點

※可多段編程控溫度，可實現(xiàn)復(fù)雜的溫度曲線，滿足不同材料和工藝需求；

※采用優(yōu)質(zhì)加熱元件，負荷高、電阻率高、抗氧化性佳、升溫加熱速度快，可減少材料的應(yīng)力及變形；

※爐膛材質(zhì)為多晶莫來纖維真空吸附而成，節(jié)能保溫效果佳，溫場均勻，確保實驗的準(zhǔn)確性和一致性。

※管式結(jié)構(gòu)，占用空間小，樣品加熱均勻，熱量分布較為一致，有利于保證產(chǎn)品的質(zhì)量一致性；

※采用上下閉合式爐體，可選配機械安全門鎖，爐蓋上翻開啟，開蓋即停止加熱（GK系列）；

※爐體可傾斜設(shè)計，方便物料的裝卸和操作，且有利于在燒結(jié)過程中排出氣體和雜質(zhì)（選配功能）；

※采用一體式爐膛，樣品由側(cè)面置入，適用于加熱樣品1300度以上的加熱環(huán)境（GS、GB系列）。

※真空加熱環(huán)境可有效排除空氣和雜質(zhì)，可有效地減少氧氣、腐蝕和污染等問題；

※爐管兩側(cè)采用不銹鋼法蘭，兩道密封圈擠壓密封，有效保證真空度，從而提高氣密性；

※爐管兩側(cè)為KF快接不銹鋼法蘭，雙環(huán)密封技術(shù)，側(cè)面預(yù)留充氣口，可通各類惰性及混合氣體；

※可模擬各種氣氛條件，可控制爐內(nèi)的氣氛組成，如N2、Ar、H2等，為研究和開發(fā)新工藝提供支持。

※爐管兩側(cè)具有可支撐氣路裝置的氣路支架，可有效消除氣路自身的應(yīng)力而造成爐管損壞；

※爐管采用高純石英管或剛玉管，化學(xué)穩(wěn)定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數(shù)小，可承受冷熱驟變；

※具有漏電保護、超溫和斷偶保護警報，操作安全可靠，背部底側(cè)位置預(yù)留檢修口，便于檢修。

安裝步驟

1、首先在石英管側(cè)開口處，塞入管堵頭

2、套入內(nèi)側(cè)法蘭固定，再依次套入密封圈、壓環(huán)、密封圈

3、最后外側(cè)法蘭鎖緊，用M6螺絲固定即可

技術(shù)參數(shù)